如何在 SCNTechnique 中使用模板？

Question

基本上，我想在一个立方体周围渲染一个轮廓。为此，我想我可以使用SCNTechnique具有以下渲染通道的 ：

1. 正常渲染立方体，并将它们占用的像素写入模板缓冲区。
2. 如果它们在第一遍中不与模板相交，则渲染稍大的立方体。

问题是，模板中的文档SCNTechnique非常稀少，我无法确切地知道如何使用它。

我已经通过首先在禁用深度测试的情况下绘制较大的“轮廓立方体”然后再绘制普通立方体来成功绘制轮廓，这效果很好，但是由于这种方法的其他复杂性，我想改用模板。

在尝试使用模板缓冲区使其工作时，我的第一遍stencilStates看起来像（以及我认为我需要这些属性的原因）：

clear = YES  // To clear the buffer from last 
enable = YES // To write to the buffer
behavior:
    writeMask = 1     // Use bit 1
    function = always // Always write to stencil regardless?

第二遍的stencilStates样子：

clear = NO   // Keep the buffer from last step
enable = NO  // Don't write to the buffer (only read?)
behavior:
    readMask = 1      // Use bit 1
    fail     = keep   // Not sure if these...
    pass     = zero   // ...should be the other way round

模板缓冲区行为还有很多其他属性，但我不确定我需要哪些以及如何使用它们。我也不确定模板缓冲区是否需要列为每次传递的输入或输出？

编辑 1：这正是我想要实现的，通过首先绘制蓝色的较大轮廓立方体而不写入深度缓冲区来呈现：

如果不是因为在这个庄园里画画有一些副作用，我会留下这样的实现，但我认为模板方法会避免这些副作用，我认为知道如何使用它们会很有用反正！

编辑 2：我一直在玩，试图直接使用 OpenGL（在 C 中）产生类似的效果。我并不假装完全理解模板是如何工作的（我基本上是从教程中借用了代码），但是这些命令产生了我想要实现的目标。

在绘制主立方体之前，写入模板缓冲区：

clear = YES  // To clear the buffer from last 
enable = YES // To write to the buffer
behavior:
    writeMask = 1     // Use bit 1
    function = always // Always write to stencil regardless?

在绘制主立方体之后，在绘制更大的轮廓立方体之前，测试当前的模板缓冲区：

clear = NO   // Keep the buffer from last step
enable = NO  // Don't write to the buffer (only read?)
behavior:
    readMask = 1      // Use bit 1
    fail     = keep   // Not sure if these...
    pass     = zero   // ...should be the other way round

因此，问题是如何使用SCNTechnique.

Answer 1

您可以使用 SCNTechnique 绘制轮廓。这个想法是将对象蒙版绘制到缓冲区，模糊蒙版的一个通道，然后将其与原始渲染帧组合。该组合着色器检查模糊通道和非模糊通道，并且仅渲染对象外部的轮廓。

这里有一个在节点周围绘制发光的示例： https: //github.com/laanlabs/SCNTechniqueGlow 您应该能够修改它以获得您想要的效果。