我一直在使用IntelliJ一段时间,但总会有一些困扰我的东西.它与自动完成功能有关.这个gif应该足以说明了.
本质上,当在另一个单词旁边键入一个单词(中间没有空格)时,无论两个单词或上下文如何,无论是关键字还是变量,自动完成都将用您完成的单词替换下一个单词.我很惊讶IntelliJ没有设置(至少不是我知道的)考虑Eclipse确实......
提前致谢!
你可以跳到TL;底部的DR得出结论.我倾向于提供尽可能多的信息,以便进一步缩小问题的范围.
我一直在研究我一直在研究的热雾效应问题.这是我想到的那种效果,但由于这是一个相当普遍的系统,它将适用于任何所谓的屏幕空间折射:
雾霾效应不是我的问题所在,因为它只是采样坐标的失真,而是采样的内容.我的第一种方法是将扭曲渲染到另一个渲染目标.这种方法相当成功,但如果您之前处理过屏幕空间纹理,那么很容易预见到这种方法.问题是由于采样坐标的偏移,如果一个物体在折射器前面,它的边缘将被带入折射计算.
正如你所看到的那样,当所有几何体都是环境(无深度测试)或背面几何体时,它看起来很好.
这里有一个比折射器更近的立方体.正如你所看到的那样,有这种效应我称之为更接近几何体的流血.
相关着色器代码供参考:
/* transparency.frag */
layout (location = 0) out vec4 out_color; // frag color
layout (location = 1) out vec4 bright; // used for bloom effect
layout (location = 2) out vec4 deform; // deform buffer
[...]
void main(void) {
[...]
vec2 n = __sample_noise_texture_with_time__{};
deform = vec4(n * .1, 0, 1);
out_color = vec4(0, 0, 0, .0);
bright = vec4(0.0, 0.0, 0.0, .9);
}
Run Code Online (Sandbox Code Playgroud)
/* post_process.frag */
in vec2 texel;
uniform sampler2D screen_t;
uniform …
Run Code Online (Sandbox Code Playgroud) 我和一个朋友一直在讨论模板缓冲区.简而言之,我无法找到模板缓冲区比OpenGL 3.2+中的可编程管道工具更具优势的情况.现代OpenGL中的模板缓冲区有用吗?
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感谢大家对该主题的所有意见.